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Structural studies of polycrystalline Si and SiC films deposited using fluorine and hydrogen radicals by PECVD
http://hdl.handle.net/2297/14626
http://hdl.handle.net/2297/14626d192df14-d421-4359-9d2c-fcfd2480d77c
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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azadeh-2007-50.pdf (344.9 kB)
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| Item type | その他 / Others(1) | |||||
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| 公開日 | 2017-10-05 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Structural studies of polycrystalline Si and SiC films deposited using fluorine and hydrogen radicals by PECVD | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_1843 | |||||
| 資源タイプ | other | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | プラズマ援用化学気相堆積法によりフッ素と水素を用いて堆積した多結晶SiおよびSiC薄膜の構造に関する研究 | |||||
| 著者 |
Adel, Azadeh Haddad
× Adel, Azadeh Haddad |
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| 書誌情報 |
博士学位論文要旨 論文内容の要旨および論文審査結果の要旨／金沢大学大学院自然科学研究科 巻 平成19年3月, p. 287-292, 発行日 2007-03-01 |
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| その他の識別子 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 000008384912 | |||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 金沢大学 | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 取得学位：博士(学術)，学位授与番号：博甲第798号，学位授与年月日：平成18年3月22日,学位授与年：2006 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
