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Study on Structural Properties of Silicon-based Insulator Films Prepared by Plasma Processings
http://hdl.handle.net/2297/33166
http://hdl.handle.net/2297/331668ce5e501-9184-4663-9746-81315a4ee610
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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NA-TH-1990-133.pdf (221.2 kB)
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| Item type | その他 / Others(1) | |||||
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| 公開日 | 2017-10-05 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Study on Structural Properties of Silicon-based Insulator Films Prepared by Plasma Processings | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | eng | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_1843 | |||||
| 資源タイプ | other | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | プラズマ・プロセスによるシリコン系絶縁薄膜の構造に関する研究 | |||||
| 著者 |
平尾, 孝
× 平尾, 孝 |
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| 書誌情報 |
博士学位論文要旨 論文内容の要旨および論文審査結果の要旨／金沢大学大学院自然科学研究科 号 平成2年6月, p. 133-136, 発行日 1990-02-01 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 金沢大学 | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 取得学位：博士(学術)，学位授与番号：学博乙第4号，学位授与年月日：平成元年9月30日 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
