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  1. B. 理工学域; 数物科学類・物質化学類・機械工学類・フロンティア工学類・電子情報通信学類・地球社会基盤学類・生命理工学類
  2. b 10. 学術雑誌掲載論文
  3. 1.査読済論文(工)

Thermally and chemically non-equilibrium modelling of Ar-N2-H2 inductively coupled plasmas at reduced pressure

http://hdl.handle.net/2297/23881
http://hdl.handle.net/2297/23881
6aa8cb75-3f19-490b-acb7-abacdf5cd683
名前 / ファイル ライセンス アクション
TE-PR-TANAKA-Y-936.pdf TE-PR-TANAKA-Y-936.pdf (664.9 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2017-10-03
タイトル
タイトル Thermally and chemically non-equilibrium modelling of Ar-N2-H2 inductively coupled plasmas at reduced pressure
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 Tanaka, Yasunori

× Tanaka, Yasunori

WEKO 67
e-Rad 90303263
金沢大学研究者情報 90303263
研究者番号 90303263

Tanaka, Yasunori

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提供者所属
内容記述タイプ Other
内容記述 金沢大学理工研究域電子情報学系
書誌情報 Thin Solid Films

巻 518, 号 3, p. 936-942, 発行日 2009-12-30
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0040-6090
NCID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00863068
DOI
関連タイプ isVersionOf
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.1016/j.tsf.2009.07.173
出版者
出版者 Elsevier BV
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 A two-dimensional thermally and chemically non-equilibrium model was developed for Ar-N2-H2 inductively coupled plasmas (ICP) at reduced pressure. The Ar-N2-H2 or Ar-NH3 plasmas at reduced pressure has been widely used for nitriding processing of materials. Totally 164 reactions including 82 forward reactions and their backward reactions were taken into account. Spatial particle composition distribution in the plasma torch as well as in the reaction chamber was derived by solving simultaneously the mass conservation equation of each particle, considering diffusion, convection and production terms. © 2009 Elsevier B.V. All rights reserved.
著者版フラグ
出版タイプ AM
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa
関連URI
識別子タイプ URI
関連識別子 http://www.elsevier.com/locate/issn/00406090
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Ver.1 2023-07-28 02:12:09.291947
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