ログイン
言語:

WEKO3

  • トップ
  • ランキング
To
lat lon distance
To

Field does not validate



インデックスリンク

インデックスツリー

メールアドレスを入力してください。

WEKO

One fine body…

WEKO

One fine body…

アイテム

  1. B. 理工学域; 数物科学類・物質化学類・機械工学類・フロンティア工学類・電子情報通信学類・地球社会基盤学類・生命理工学類
  2. b 10. 学術雑誌掲載論文
  3. 1.査読済論文(工)

電気泳動現象利用による表面研磨 (FFF) (第2報): 加工圧力付与による窒化けい素の研磨

http://hdl.handle.net/2297/42764
http://hdl.handle.net/2297/42764
beac7285-f596-4980-8ccc-509a3246db61
名前 / ファイル ライセンス アクション
TE-PR-KUROBE-T-1685.pdf TE-PR-KUROBE-T-1685.pdf (3.0 MB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2017-10-03
タイトル
タイトル 電気泳動現象利用による表面研磨 (FFF) (第2報): 加工圧力付与による窒化けい素の研磨
タイトル
タイトル Electric Field-assisted Polishing Using Electrophoresis Phenomenon (2nd Report): Polishing of Silicon Nitride under Applied Load
言語 en
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 黒部, 利次

× 黒部, 利次

WEKO 13084
研究者番号 60019742

黒部, 利次

Search repository
高山, 昌也

× 高山, 昌也

WEKO 13467

高山, 昌也

Search repository
中田, 邦夫

× 中田, 邦夫

WEKO 13468

中田, 邦夫

Search repository
上田, 修治

× 上田, 修治

WEKO 13469

上田, 修治

Search repository
書誌情報 精密工学会誌 = Journal of the Japan Society for Precision Engineering

巻 54, 号 9, p. 1685-1690, 発行日 1988-01-01
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0912-0289
NCID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN1003250X
DOI
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.2493/jjspe.54.1685
出版者
出版者 精密工学会 = The Japan Society for Precision Engineering
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Polishing of silicon nitride has been conducted by using a newly-developed finishing setup which is able to give the polishing pressure to the workpiece. The polishing is made by using an electrophoresis phenomenon of fine grain in liquid. When the electric power of DC voltage is supplied to the electrode set into the polishing compound, the grain moves and causes the polishing action to the workpiece surface. The polishing pad is put onto the stainless disc electrode. It is found from the experiments that unwoven polishing pad and reddish ferrite grain are suitable for the finishing of silicon nitride. Experimental results show that the stock removal rate increases with both the applied potential and load. The characteristics of surface polished are examined by X-ray photo spectroscopy. Photo electron spectra observed suggest that the mechanochemical actions arise on the surface of silicon nitride during the polishing process.
権利
権利情報 Copyright © The Japan Society for Precision Engineering 精密工学会
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
関連URI
識別子タイプ URI
関連識別子 https://www.jstage.jst.go.jp/browse/jjspe/-char/ja/
関連URI
識別子タイプ URI
関連識別子 http://www.jspe.or.jp/
戻る
0
views
See details
Views

Versions

Ver.1 2023-07-28 01:55:20.024758
Show All versions

Share

Mendeley Twitter Facebook Print Addthis

Cite as

エクスポート

OAI-PMH
  • OAI-PMH JPCOAR 2.0
  • OAI-PMH JPCOAR 1.0
  • OAI-PMH DublinCore
  • OAI-PMH DDI
Other Formats
  • JSON
  • BIBTEX

Confirm


Powered by WEKO3


Powered by WEKO3