WEKO3
アイテム / Development of a High-Intensity UV Exposure Apparatus under a High-Pressure CO2 Gas Atmosphere to Manufacture Large-Area Porous Ultralow-k Polyimide Substrates for Flexible Print Circuits / TE-PR-TAKI-K-747
TE-PR-TAKI-K-747
ファイル | ライセンス |
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TE-PR-TAKI-K-747.pdf (1.6 MB) sha256 fdc48b91925ea3d344b77ac9aace88fea38294cee568025cef5751dc293cb4ff |
Creative Commons Attribution-NonCommercial-NoDerivs 3.0 Unported (CC BY-NC-ND 3.0) |
公開日 | 2018-07-02 | |||||
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ファイル名 | TE-PR-TAKI-K-747.pdf | |||||
本文URL | https://kanazawa-u.repo.nii.ac.jp/record/45078/files/TE-PR-TAKI-K-747.pdf | |||||
ラベル | TE-PR-TAKI-K-747.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 1.6 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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