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UV/光電子法による微量ガス状および粒子状汚染物質の同時除去システムの開発
https://doi.org/10.24517/00048948
https://doi.org/10.24517/0004894890ed261c-087f-44e8-aba7-ca5d78c3ac97
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
TE-PR-EMI-Ｈ-kaken 1999-8p.pdf (372.9 kB)
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.png)
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| Item type | 報告書 / Research Paper_default(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2017-11-16 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | UV/光電子法による微量ガス状および粒子状汚染物質の同時除去システムの開発 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Development of Simultaneous Removal System for Trace Gaseous and Particulate Contaminants by UV/Photoelectron Method | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | UV | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 光電子法 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | イオン誘発核生成 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 同時除去 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 揮発性有機化合物(VOC) | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 減圧場 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 光触媒 | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | UV | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | photoelectron method | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Ion-induced nucleation | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Simultaneous removal | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Volatile organic compound (VOC) | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Subatmospheric pressure | |||||
| キーワード | ||||||
| 言語 | en | |||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Photocatalysis | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_18ws | |||||
| 資源タイプ | research report | |||||
| ID登録 | ||||||
| ID登録 | 10.24517/00048948 | |||||
| ID登録タイプ | JaLC | |||||
| 研究代表者 |
江見, 準
× 江見, 準× Emi, Hitoshi |
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| 研究代表者ID | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 90025966 | |||||
| 書誌情報 |
平成10(1998)年度 科学研究費補助金 基盤研究(B) 研究成果報告書 en : 1998 Fiscal Year Final Research Report 巻 1997-1998, p. 8p. |
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| 報告年度 | ||||||
| 日付 | 1999-03 | |||||
| 日付タイプ | Issued | |||||
| 研究課題番号 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 09555229 | |||||
| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | 本研究では,UV/光電子法を利用して,常圧下から減圧下に適用できる,ガス中の炭化水素系汚染ガスおよび粒子状汚染物質の新しい同時除去システムを開発することを目的とした。昨年度は,大気圧下での実験でガス状・粒子状物質の除去実験を行い,高効率で安定した処理が可能であることがわかった。本年度は,昨年度の成果を踏まえて,ストッカ,テスト粒子発生装置,光電子量測定装置,低濃度超微粒子測定装置を減圧下(20torr〜)での使用に対応できるように改良し,大気圧下と同様の実験を行った結果,以下のような知見を得た。(1).単分散のPSL粒子をストッカ内に導入して,圧力ごとに発生イオン濃度,粒子の平均帯電数,粒子除去率を調べたところ,圧力が下がるにつれてそれぞれの値は上昇し,特に粒子除去率は100torr以下で急激に効率が良くなる。(2).減圧場での粒子の荷電効率を考慮した粒子の移流拡散方程式を数値計算で解くことで,各圧力ごとの粒子除去率を推定できる。(3).減圧場でのガス状物質からの粒子生成を確認することはできなかったが,UV/O_3洗浄を施したウェハを光電子を発生させた場合と発生させない状態で,減圧ストッカー内に長時間保管してガス状物質の付着によるウェハの接触角を測定したところ,光電子を発生させた場合の方が接触角の上昇が抑えられる。(4).大気圧,減圧場において,酸化チタン光触媒を併用することでガス状物質がさらに高効率で除去できる。 | |||||
| 抄録 | ||||||
| 内容記述タイプ | Abstract | |||||
| 内容記述 | This research aims at developing a stocker built-in simultaneous removal system for organic gaseous and particulate contaminants by UV/photoelectron method under both normal and reduced pressures. In the first year, we conducted experiments on removal of gaseous and particulate matter under atmospheric pressure, and then obtained the result that the removal device has steadily high removal efficiency for them. In the second year, we modified the setup so that it can operate under subatmospheric pressure (until 20 torr) and performed experiments similar to the normal pressure conditions. As a result, it was shown that i) particle removal efficiency increased rapidly under 100 torr, ii) the numerical calculation of convective-diffusive equation for particles accounting for their charging efficiency can estimate their removal efficiency at each pressure, iii) the emission of UV/photoelectrons can suppress increase in contact angle of droplets on wafer set in the stocker, which is an index of its organic contamination, iv) the simultaneous usage of UV/photoelectron emitter and UV-irradiated titania can achieve extremely high efficiency for gaseous contaminants at both normal and reduced pressures. | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 研究課題/領域番号:09555229, 研究期間(年度):1997-1998 | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 研究機関: 金沢大学工学部 | |||||
| 内容記述 | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | 出典：「UV/光電子法による微量ガス状および粒子状汚染物質の同時除去システムの開発」研究成果報告書 課題番号09555229 (KAKEN：科学研究費助成事業データベース（国立情報学研究所）) 本文データは著者版報告書より作成 |
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| 関連サイト | ||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | https://kaken.nii.ac.jp/search/?qm=90025966 | |||||
| 関連名称 | https://kaken.nii.ac.jp/search/?qm=90025966 | |||||
| 関連サイト | ||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-09555229/ | |||||
| 関連名称 | https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-09555229/ | |||||
| 関連サイト | ||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | https://kaken.nii.ac.jp/report/KAKENHI-PROJECT-09555229/095552291998kenkyu_seika_hokoku_gaiyo/ | |||||
| 関連名称 | https://kaken.nii.ac.jp/report/KAKENHI-PROJECT-09555229/095552291998kenkyu_seika_hokoku_gaiyo/ | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | AM | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa | |||||
