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  1. N. 科研費研究成果報告書, JSTプロジェクト報告書, COE報告書
  2. n-1. 科学研究費成果報告書
  3. 平成01(1989)年度

エキシマレーザによる酸化物高温超伝導薄膜の低温作製と評価

https://doi.org/10.24517/00067226
https://doi.org/10.24517/00067226
ade3b185-9306-4936-9c41-aa647bbe1ca5
名前 / ファイル ライセンス アクション
TE-PR-SHIMIZU-T-kaken TE-PR-SHIMIZU-T-kaken 2016-2p.pdf (143.7 kB)
license.icon
Item type 報告書 / Research Paper(1)
公開日 2022-11-25
タイトル
タイトル エキシマレーザによる酸化物高温超伝導薄膜の低温作製と評価
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_18ws
資源タイプ research report
ID登録
ID登録 10.24517/00067226
ID登録タイプ JaLC
著者 清水, 立生

× 清水, 立生

WEKO 18597
e-Rad 30019715

清水, 立生

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提供者所属
内容記述タイプ Other
内容記述 金沢大学工学部
書誌情報 平成1(1989)年度 科学研究費補助金 重点領域研究 研究課題概要
en : 1989 Research Project Summary

巻 1989, p. 2p., 発行日 2016-04-21
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 1.目的
本研究では、ArFエキシマレーザを用いたレーザアブレーション法に着目し、その基礎的な堆積機構を明らかにすると共に、良好な酸化物高温超伝導薄膜を主にシリコン基板に直接、低基板温度で作製することを主な目的とする。
2.実験結果の概要
(1)レーザアブレーションの基礎過程を明らかにするため、エキシマレーザ照射によるY系超伝導ターゲット表面の過渡的温度上昇を計算した。ここではターゲット最表面での物質の気化による冷却を考慮している。その結果、レーザアブレーション現象は最表面直下の高温溶融部の爆発的射出で説明できることを示した。
次に、同じ計算手法を用いて、薄膜成長表面上へのレーザ照射についてもシミュレーションを試みた。この薄膜成長表面へのエキシマレーザ照射は、超伝導特性並びに表面平滑性の改善に効果がある。計算の結果、照射により400度もの温度上昇が生じ、特性改善には過渡的な温度上昇効果が無視できないことを示した。
(2)Y系超伝導薄膜の堆積温度の低減のため、O_2ガスの替わりにN_2Oガスをアブレーションの雰囲気ガスとして用いた場合の効果について調べた。その結果、N_2OはO_2に比べよりc軸配向を促進する効果があることがわかった。種々の作製法で、基板温度を上げるとc軸配向性が促進されることが知られており、N_2Oガスは実効的に基板温度を高めるのと同じ様な効果があるとみることができる。
(3)N_2O雰囲気でも、薄膜成長表面へのレーザ照射を行った結果、レーザ照射により臨界温度が増加する傾向にあることがわかった。
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 研究課題/領域番号:01645001, 研究期間(年度):1989
内容記述
内容記述タイプ Other
内容記述 出典:研究課題「エキシマレーザによる酸化物高温超伝導薄膜の低温作製と評価」課題番号01645001
(KAKEN:科学研究費助成事業データベース(国立情報学研究所))
(https://kaken.nii.ac.jp/ja/grant/KAKENHI-PROJECT-01645001/)を加工して作成
著者版フラグ
出版タイプ AM
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa
関連URI
識別子タイプ URI
関連識別子 https://kaken.nii.ac.jp/search/?qm=30019715
関連名称 https://kaken.nii.ac.jp/search/?qm=30019715
関連URI
識別子タイプ URI
関連識別子 https://kaken.nii.ac.jp/ja/grant/KAKENHI-PROJECT-01645001/
関連名称 https://kaken.nii.ac.jp/ja/grant/KAKENHI-PROJECT-01645001/
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Ver.1 2023-07-27 11:29:44.974801
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