| Item type |
学術雑誌論文 / Journal Article(1) |
| 公開日 |
2017-10-05 |
| タイトル |
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タイトル |
吸着原子の流れと拡散係数の異方性によるステップの蛇行 : 結晶成長理論シンポジウム |
| タイトル |
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タイトル |
Drift-Induced Step Wandering in a Vicinal Face of Si(001) |
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言語 |
en |
| 言語 |
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言語 |
jpn |
| 資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
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資源タイプ |
journal article |
| ID登録 |
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ID登録 |
10.24517/00028621 |
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ID登録タイプ |
JaLC |
| 著者 |
佐藤, 正英
上羽, 牧夫
齋藤, 幸夫
広瀬, 幸雄
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| 著者別表示 |
Sato, Masahide
Uwaha, Makio
Saito, Yukio
Hirose, Yukio
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| 提供者所属 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
金沢大学総合メディア基盤センター |
| 書誌情報 |
Journal of the Japanese Association of Crystal Growth = 日本結晶成長学会誌
巻 29,
号 2008,
p. 78,
発行日 2002-07-01
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| ISSN |
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収録物識別子タイプ |
ISSN |
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収録物識別子 |
0385-6275 |
| NCID |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AN00188386 |
| 出版者 |
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出版者 |
The Japanese Association for Crystal Growth (JACG) = 日本結晶成長学会 |
| 抄録 |
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内容記述タイプ |
Abstract |
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内容記述 |
We study drift-induced step wandering in a vicinal face of Si(001). With step-down drift, only step pairing occurs. With step-up drift, both step pairing and step wandering occur with a weak step repulsion, and only the step wandering occur with a strong step repulsion. The results agree with the observation of a Si(001) vicinal face. |
| 権利 |
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権利情報 |
本文データは日本結晶成長学会の許諾に基づきCiNiiから複製したものである |
| 著者版フラグ |
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出版タイプ |
VoR |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
| 関連URI |
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識別子タイプ |
URI |
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関連識別子 |
http://wwwsoc.nii.ac.jp/jacg/ |
| 関連URI |
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識別子タイプ |
URI |
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関連識別子 |
http://ci.nii.ac.jp/naid/110002715605/en/ |
CS-PR-SATO-M-78.pdf (90.8 kB)
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