WEKO3
アイテム
{"_buckets": {"deposit": "c6eef086-9439-4f19-a93b-5ea9e4270a46"}, "_deposit": {"created_by": 3, "id": "37102", "owners": [3], "pid": {"revision_id": 0, "type": "depid", "value": "37102"}, "status": "published"}, "_oai": {"id": "oai:kanazawa-u.repo.nii.ac.jp:00037102", "sets": ["2960"]}, "author_link": ["60833"], "item_5_alternative_title_2": {"attribute_name": "その他のタイトル", "attribute_value_mlt": [{"subitem_alternative_title": "Plasma-Enhanced化学気相成長法によるナノメーターサイズ粒子をもつ結晶性シリコン膜の形成"}]}, "item_5_biblio_info_8": {"attribute_name": "書誌情報", "attribute_value_mlt": [{"bibliographicIssueDates": {"bibliographicIssueDate": "2002-09-01", "bibliographicIssueDateType": "Issued"}, "bibliographicPageEnd": "63", "bibliographicPageStart": "60", "bibliographicVolumeNumber": "平成14年9月", "bibliographic_titles": [{"bibliographic_title": "博士学位論文要旨 論文内容の要旨および論文審査結果の要旨/金沢大学大学院自然科学研究科"}]}]}, "item_5_description_16": {"attribute_name": "その他の識別子", "attribute_value_mlt": [{"subitem_description": "000003542076", "subitem_description_type": "Other"}]}, "item_5_description_22": {"attribute_name": "内容記述", "attribute_value_mlt": [{"subitem_description": "取得学位:博士(学術),学位授与番号:博甲第436号,学位授与年月日:平成13年9月28日,学位授与年:2001", "subitem_description_type": "Other"}]}, "item_5_publisher_17": {"attribute_name": "出版者", "attribute_value_mlt": [{"subitem_publisher": "金沢大学"}]}, "item_5_version_type_25": {"attribute_name": "著者版フラグ", "attribute_value_mlt": [{"subitem_version_resource": "http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85", "subitem_version_type": "VoR"}]}, "item_creator": {"attribute_name": "著者", "attribute_type": "creator", "attribute_value_mlt": [{"creatorNames": [{"creatorName": "Atif, Mossad Ali"}], "nameIdentifiers": [{"nameIdentifier": "60833", "nameIdentifierScheme": "WEKO"}]}]}, "item_files": {"attribute_name": "ファイル情報", "attribute_type": "file", "attribute_value_mlt": [{"accessrole": "open_date", "date": [{"dateType": "Available", "dateValue": "2017-10-05"}], "displaytype": "detail", "download_preview_message": "", "file_order": 0, "filename": "NA-TH-436-60-63.pdf", "filesize": [{"value": "212.8 kB"}], "format": "application/pdf", "future_date_message": "", "is_thumbnail": false, "licensetype": "license_free", "mimetype": "application/pdf", "size": 212800.0, "url": {"label": "NA-TH-436-60-63.pdf", "url": "https://kanazawa-u.repo.nii.ac.jp/record/37102/files/NA-TH-436-60-63.pdf"}, "version_id": "a8c7ed49-5958-4726-aca8-68882cd2d301"}]}, "item_language": {"attribute_name": "言語", "attribute_value_mlt": [{"subitem_language": "eng"}]}, "item_resource_type": {"attribute_name": "資源タイプ", "attribute_value_mlt": [{"resourcetype": "other", "resourceuri": "http://purl.org/coar/resource_type/c_1843"}]}, "item_title": "Formation of crystalline silicon films having nanometer-size grains using a plasma-enhanced chemical vapor deposition technique", "item_titles": {"attribute_name": "タイトル", "attribute_value_mlt": [{"subitem_title": "Formation of crystalline silicon films having nanometer-size grains using a plasma-enhanced chemical vapor deposition technique"}]}, "item_type_id": "5", "owner": "3", "path": ["2960"], "permalink_uri": "http://hdl.handle.net/2297/16415", "pubdate": {"attribute_name": "公開日", "attribute_value": "2017-10-05"}, "publish_date": "2017-10-05", "publish_status": "0", "recid": "37102", "relation": {}, "relation_version_is_last": true, "title": ["Formation of crystalline silicon films having nanometer-size grains using a plasma-enhanced chemical vapor deposition technique"], "weko_shared_id": 3}
Formation of crystalline silicon films having nanometer-size grains using a plasma-enhanced chemical vapor deposition technique
http://hdl.handle.net/2297/16415
http://hdl.handle.net/2297/1641530fe9519-57c4-4389-b8f4-da654ec1456c
名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
---|---|---|
![]() |
|
Item type | その他 / Others(1) | |||||
---|---|---|---|---|---|---|
公開日 | 2017-10-05 | |||||
タイトル | ||||||
タイトル | Formation of crystalline silicon films having nanometer-size grains using a plasma-enhanced chemical vapor deposition technique | |||||
言語 | ||||||
言語 | eng | |||||
資源タイプ | ||||||
資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_1843 | |||||
資源タイプ | other | |||||
その他のタイトル | ||||||
その他のタイトル | Plasma-Enhanced化学気相成長法によるナノメーターサイズ粒子をもつ結晶性シリコン膜の形成 | |||||
著者 |
Atif, Mossad Ali
× Atif, Mossad Ali |
|||||
書誌情報 |
博士学位論文要旨 論文内容の要旨および論文審査結果の要旨/金沢大学大学院自然科学研究科 巻 平成14年9月, p. 60-63, 発行日 2002-09-01 |
|||||
その他の識別子 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 000003542076 | |||||
出版者 | ||||||
出版者 | 金沢大学 | |||||
内容記述 | ||||||
内容記述タイプ | Other | |||||
内容記述 | 取得学位:博士(学術),学位授与番号:博甲第436号,学位授与年月日:平成13年9月28日,学位授与年:2001 | |||||
著者版フラグ | ||||||
出版タイプ | VoR | |||||
出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |