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  1. B. 理工学域; 数物科学類・物質化学類・機械工学類・フロンティア工学類・電子情報通信学類・地球社会基盤学類・生命理工学類
  2. b 10. 学術雑誌掲載論文
  3. 1.査読済論文(工)

Kinetics of solid phase interaction between Al and a‐Si:H

http://hdl.handle.net/2297/24217
http://hdl.handle.net/2297/24217
a0418c82-e668-47ad-b3b5-0cc1188f0189
名前 / ファイル ライセンス アクション
TE-PR-MASAKI-Y-5225.pdf TE-PR-MASAKI-Y-5225.pdf (459.2 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2017-10-03
タイトル
タイトル Kinetics of solid phase interaction between Al and a‐Si:H
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
著者 Masaki, Yuichi

× Masaki, Yuichi

WEKO 10786

Masaki, Yuichi

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Ogata, Toshihiro

× Ogata, Toshihiro

WEKO 10787

Ogata, Toshihiro

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Ogawa, Hiroshi

× Ogawa, Hiroshi

WEKO 10788
e-Rad 60303260

Ogawa, Hiroshi

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Jones, David I.

× Jones, David I.

WEKO 10789

Jones, David I.

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提供者所属
内容記述タイプ Other
内容記述 金沢大学工学部
書誌情報 Journal of Applied Physics

巻 76, 号 9, p. 5225-5231, 発行日 1994-11-01
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 0021-8979
NCID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA00693547
DOI
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.1063/1.357172
出版者
出版者 American Institute of Physics
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 The kinetics of solid phase interaction between Al and a‐Si:H have been investigated. The experiment led to the observation of low‐temperature crystallization as has been reported. The crystallization temperature was found to be 300–350 °C from diffraction studies. From the x‐ray photoelectron spectroscopy study, electron transfer from Al to Si was observed in the intermixing layer in samples annealed at RT and 200 °C whereas there is no evidence of the electron transfer for 300 and 350 °C annealed samples. To explain these results, a comparison is made with the interaction in the Cr/a‐Si:H system previously reported and the interdiffusion model is proposed.
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.1 2023-07-28 02:18:11.882167
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