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  1. H-4. 設計製造技術研究所
  2. h-4 10. 学術雑誌掲載論文
  3. 1. 査読済論文

Thermal-equilibrium defects in undoped hydrogenated amorphous silicon, silicon-carbon, and silicon-nitrogen

https://doi.org/10.24517/00010032
https://doi.org/10.24517/00010032
57490b13-1630-4314-b81a-263fd5819111
名前 / ファイル ライセンス アクション
TE-PR-1990-MORIMOTO-A-10049.pdf TE-PR-1990-MORIMOTO-A-10049.pdf (1.5 MB)
license.icon
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2017-10-03
タイトル
タイトル Thermal-equilibrium defects in undoped hydrogenated amorphous silicon, silicon-carbon, and silicon-nitrogen
言語
言語 eng
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ journal article
ID登録
ID登録 10.24517/00010032
ID登録タイプ JaLC
著者 Xu, Xixiang

× Xu, Xixiang

WEKO 14833

Xu, Xixiang

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Sasaki, Hiroyuki

× Sasaki, Hiroyuki

WEKO 14834

Sasaki, Hiroyuki

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Morimoto, Akiharu

× Morimoto, Akiharu

WEKO 132
e-Rad 60143880
金沢大学研究者情報 60143880
研究者番号 60143880

Morimoto, Akiharu

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Kumeda, Minoru

× Kumeda, Minoru

WEKO 9766
e-Rad 30019773
研究者番号 30019773

Kumeda, Minoru

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Shimizu, Tatsuo

× Shimizu, Tatsuo

WEKO 9767
e-Rad 30019715

Shimizu, Tatsuo

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著者別表示 森本, 章治

× 森本, 章治

森本, 章治

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久米田, 稔

× 久米田, 稔

久米田, 稔

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清水, 立生

× 清水, 立生

清水, 立生

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提供者所属
内容記述タイプ Other
内容記述 金沢大学設計製造技術研究所 / 金沢大学理工研究域電子情報学系 / 金沢大学工学部
書誌情報 Physical Review -Series B-

巻 41, 号 14, p. 10049-10057, 発行日 1990-05-01
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 1098-0121
NCID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA11289372
DOI
関連タイプ isIdenticalTo
識別子タイプ DOI
関連識別子 10.1103/PhysRevB.41.10049
出版者
出版者 American Physical Society
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Temperature dependence of the thermal-equilibrium defect density in undoped a-Si:H, a-Si1-xCx:H, and a-Si1-xNx:H is obtained both by in situ electron-spin-resonance (ESR) measurements at elevated temperatures and by ESR measurements of frozen-in defects at room temperature. The experimental results confirm that the defects in these alloy films, even for films with the defect density as high as 1017 cm-3, can reach thermal equilibrium above a certain temperature (200350°C). Thickness dependence of the defect density after various thermal treatments shows that only the bulk defect density increases with temperature, with the exception that thin a-Si:H films (<1 m) exhibit some extra increase. Results of ESR, light-induced ESR (LESR), and constant-photocurrent method (CPM) measurements indicate that the charged-defect density in these films does not appreciably increase with temperature. Relaxation of the frozen-in defect density follows a stretched exponential form and the relaxation time increases with the defect density in these alloys. © 1990 The American Physical Society.
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
関連URI
識別子タイプ URI
関連識別子 http://www.scopus.com/record/display.url?eid=2-s2.0-0042911196&origin=resultslist&sort=plf-f&src=s&sid=F6hms6Cj5qviMqR7MtfaNW6%3a110&sot=q&sdt=b&sl=90&s=TITLE-ABS-KEY-AUTH%28Thermal-equilibrium+defects+in+undoped+hydrogenated+amorphous+silicon%2c%29&relpos=8&relpos=8
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Ver.1 2023-07-27 10:10:07.691957
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