Item type |
学術雑誌論文 / Journal Article(1) |
公開日 |
2017-10-05 |
タイトル |
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タイトル |
17pC11 シリコン(001)微斜面でのステップ束の2次元パターンと成長則 : 結晶成長理論,第35回結晶成長国内会議 |
タイトル |
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タイトル |
17pC11 Two-dimensional Pattern and Growth Law in Step Bunching on Si(001) Vicinal Face(NCCG-35) |
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言語 |
en |
言語 |
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言語 |
jpn |
資源タイプ |
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資源タイプ識別子 |
http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 |
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資源タイプ |
journal article |
ID登録 |
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ID登録 |
10.24517/00028532 |
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ID登録タイプ |
JaLC |
著者 |
佐藤, 正英
上羽, 牧夫
齋藤, 幸夫
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著者別表示 |
Sato, Masahide
Uwaha, Makio
Saito, Yukio
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提供者所属 |
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内容記述タイプ |
Other |
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内容記述 |
金沢大学総合メディア基盤センター |
書誌情報 |
Journal of the Japanese Association of Crystal Growth = 日本結晶成長学会誌
巻 32,
号 3,
p. 174,
発行日 2005-08-17
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ISSN |
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収録物識別子タイプ |
ISSN |
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収録物識別子 |
0385-6275 |
NCID |
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収録物識別子タイプ |
NCID |
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収録物識別子 |
AN00188386 |
DOI |
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関連タイプ |
isIdenticalTo |
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識別子タイプ |
DOI |
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関連識別子 |
10.19009/jjacg.32.3_174 |
出版者 |
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出版者 |
The Japanese Association for Crystal Growth (JACG) = 日本結晶成長学会 |
抄録 |
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内容記述タイプ |
Abstract |
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内容記述 |
With a Si(001) vicinal in mind, we study step bunching induced by drift of adatoms. In 1-dimensional model, bunches with step-down drift grow faster than those with step-up drift. In 2-dimensional model, the bunches with step-down drift are straight and those with step-up drift are fluctuated large. By the difference of the 2-dimensional pattern, the bunches with step-up drift grow as fast as those with step-down drift. |
権利 |
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権利情報 |
本文データは日本結晶成長学会の許諾に基づきCiNiiから複製したものである |
著者版フラグ |
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出版タイプ |
VoR |
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出版タイプResource |
http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 |
関連URI |
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識別子タイプ |
URI |
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関連識別子 |
http://wwwsoc.nii.ac.jp/jacg/ |
関連URI |
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識別子タイプ |
URI |
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関連識別子 |
http://ci.nii.ac.jp/naid/110007331646/en/ |
関連URI |
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識別子タイプ |
URI |
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関連識別子 |
https://www.jstage.jst.go.jp/browse/jjacg/-char/ja |
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関連名称 |
https://www.jstage.jst.go.jp/browse/jjacg/-char/ja |
関連URI |
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識別子タイプ |
URI |
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関連識別子 |
http://www.jacg.jp/ |
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関連名称 |
http://www.jacg.jp/ |